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題 名:
Characterization of Plasma Charging Induced Gate Oxide Damage during Metal Etching:金屬蝕刻時電漿充電損害效應的探討
- 作者:
- 書刊名:
Proceedings of the National Science Council : Part A, Physical Science and Engineering
- 卷 期:
22:3 1998.05[民87.05]
- 頁 次:
頁416-424
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題 名:
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
9:10=103 2001.10[民90.10]
- 頁 次:
頁190-197
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
64:2=392 1986.08[民75.08]
- 頁 次:
頁174
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
503 2014.11[民103.11]
- 頁 次:
頁58-62
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
3 2010.10[民99.10]
- 頁 次:
頁33-40
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
30:2 2008.04[民97.04]
- 頁 次:
頁122-125
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
4 2018.06[民107.06]
- 頁 次:
頁77-87
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
50 2023.04[民112.04]
- 頁 次:
頁11-59