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檢索結果筆數(26)。 各著作權人授權國家圖書館,敬請洽詢 nclper@ncl.edu.tw
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題 名:
氣流中斷法原子層沉積系統對於薄膜品質的影響:The Flow Rate-interruption Atomic Layer Deposition System on Film Quality
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- 書刊名:
- 卷 期:
34:4 2021.12[民110.12]
- 頁 次:
頁20
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題 名:
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題 名:
磷化銦單晶應用與技術發展現況:Applications and Technology Development Status of Indium Phosphide Single Crystal
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
415 2021.07[民110.07]
- 頁 次:
頁41-49
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
415 2021.07[民110.07]
- 頁 次:
頁50-59
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
11:1 2021.04[民110.04]
- 頁 次:
頁1-13
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
416 2021.08[民110.08]
- 頁 次:
頁47-56
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題 名:
圖案化介電材料在先進構裝之發展趨勢:The Trend of Patterned Dielectric Materials for Advanced Package
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編 次:
上
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
416 2021.08[民110.08]
- 頁 次:
頁148-156
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
9:1 2021.03[民110.03]
- 頁 次:
頁63-72
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
459 2021.06[民110.06]
- 頁 次:
頁9-15
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
459 2021.06[民110.06]
- 頁 次:
頁55-63
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題 名:
Micro LED高溫磊晶加熱模組技術:Heating Module Technology for Micro LED High Temperature Epitaxy
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
459 2021.06[民110.06]
- 頁 次:
頁72-76
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
40:3 2021.07[民110.07]
- 頁 次:
頁21-28
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
201 2021.09[民110.09]
- 頁 次:
頁9-14
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
201 2021.09[民110.09]
- 頁 次:
頁15-22
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
201 2021.09[民110.09]
- 頁 次:
頁30-36
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
201 2021.09[民110.09]
- 頁 次:
頁43-49
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
201 2021.09[民110.09]
- 頁 次:
頁66-70
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
463 2021.10[民110.10]
- 頁 次:
頁56-62
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
34:1 2021.03[民110.03]
- 頁 次:
頁5-12
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題 名:
原子層沉積製程設備對薄膜品質的影響:The Influence of ALD Process Equipment on Film Quality
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
34:2 2021.06[民110.06]
- 頁 次:
頁38-43
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題 名:
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- 題 名:
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- 書刊名:
- 卷 期:
11:2 2021.10[民110.10]
- 頁 次:
頁29-39