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檢索結果筆數(23)。 各著作權人授權國家圖書館,敬請洽詢 nclper@ncl.edu.tw
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同步輻射粉末繞射技術--動態結構分析:Synchrotron Powder X-ray Diffraction: Dynamic Structural Analysis
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:4 2019.12[民108.12]
- 頁 次:
頁5-10
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題 名:
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- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:4 2019.12[民108.12]
- 頁 次:
頁11-16
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題 名:
X光吸收光譜:快速掃描實驗設施:X-ray Absorption Spectroscopy: Quick-scanning Experimental Technique
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:4 2019.12[民108.12]
- 頁 次:
頁19-23
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題 名:
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題 名:
X光奈米繞射實驗站--奈米尺度下的結晶世界:X-ray Nano-diffraction Beanline: Crystal State in World of Nano-scale
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:4 2019.12[民108.12]
- 頁 次:
頁24-31
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:3 2019.09[民108.09]
- 頁 次:
頁19
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題 名:
以PECVD鍍膜技術製備疏水薄膜應用於光學鏡片:Preparation of Hydrophobic Thin Film by PECVD Technology for Optical Lens
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:3 2019.09[民108.09]
- 頁 次:
頁20
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:3 2019.09[民108.09]
- 頁 次:
頁21
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:3 2019.09[民108.09]
- 頁 次:
頁22
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:3 2019.09[民108.09]
- 頁 次:
頁23
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題 名:
反應性直流磁控濺鍍製程之PID穩定控制研究:The Stability of PID Control for DC Reactive Magnetron Sputtering Processes
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:3 2019.09[民108.09]
- 頁 次:
頁24-30
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題 名:
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題 名:
應用雷射誘導背面濕式刻蝕技術於具透光性之基材:Application of Laser-Induced Backside Wet Etching to Transparent Substrates
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:3 2019.09[民108.09]
- 頁 次:
頁31-38
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:3 2019.09[民108.09]
- 頁 次:
頁39-46
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題 名:
電弧離子鍍類鑽碳薄膜的新興產業應用:Emerging Industrial Applications of Arc Ion Plated Diamond-like Carbon Films
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:1 2019.03[民108.03]
- 頁 次:
頁9-18
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題 名:
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題 名:
超奈米微晶鑽石薄膜在生醫上的應用:Ultra-nanocrystalline Diamond Films for Biomedical Applications
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:1 2019.03[民108.03]
- 頁 次:
頁19-28
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:1 2019.03[民108.03]
- 頁 次:
頁29-36
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題 名:
銅觸媒成長奈米碳管機制探討:Growth Mechanism of Carbon Nanotubes over Copper Catalysts
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:1 2019.03[民108.03]
- 頁 次:
頁37-45
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:1 2019.03[民108.03]
- 頁 次:
頁46-50
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題 名:
柔性陶瓷薄膜新契機--雲母平臺:New Opportunities for Flexible Ceramic Thin Films--Muscovite Platform
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:2 2019.06[民108.06]
- 頁 次:
頁5-17
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題 名:
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題 名:
具臨場焦耳加熱之原子層沉積系統:Atomic Layer Deposition System with In-situ Joule Heating Capability
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:2 2019.06[民108.06]
- 頁 次:
頁18-22
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:2 2019.06[民108.06]
- 頁 次:
頁23-34