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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:3 2019.09[民108.09]
- 頁 次:
頁22
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題 名:
反應性直流磁控濺鍍製程之PID穩定控制研究:The Stability of PID Control for DC Reactive Magnetron Sputtering Processes
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:3 2019.09[民108.09]
- 頁 次:
頁24-30
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
63:3=247 2019.09[民108.09]
- 頁 次:
頁66-90
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題 名:
射頻磁控濺鍍製備WO₃/Ag/W/WO₃多層膜之研究:Investigation of WO₃/Ag/W/WO₃ Multilayer by RF Magnetron Sputtering
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:2 2019.06[民108.06]
- 頁 次:
頁35_1-35_6
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
434 2019.05[民108.05]
- 頁 次:
頁69-78