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題 名:
CESL Deposition Enhancing Performance of N/pMOSFETs under 45-NM Process Manufacture:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
18:6 2011.12[民100.12]
- 頁 次:
頁285-290
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題 名:
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題 名:
Temperature Dependence of Substrate Currents of MOSFETs Under Different Drain and Gate Biases:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
34:3 2011.04[民100.04]
- 頁 次:
頁441-448
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題 名: