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- 題 名:
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- 卷 期:
11:1 2004.02[民93.02]
- 頁 次:
頁5-11
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題 名:
以光激化學氣相沉積系統成長二氧化矽作為砷化鎵金氧半電容之絕緣層:GaAs MOS Capacitors with Photo-CVD SiO[feaf]Insulator Layers
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
17:3 2004.11[民93.11]
- 頁 次:
頁26-30
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
23:4=92 2004.11[民93.11]
- 頁 次:
頁72-80
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題 名:
核三廠硼酸儲存槽水中二氧化矽移除之研究:Study of Silica Removal from Boric Acid Storage Tank at Maanshan Power Station
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
672 2004.08[民93.08]
- 頁 次:
頁97-108
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
28:7 2004.07[民93.07]
- 頁 次:
頁38-43
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題 名:
金屬誘發結晶法製作多晶矽薄膜之研究:Fabrication of Poly-Si by Using Metal Induce Crystallization Method
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
16:3 2004.01[民93.01]
- 頁 次:
頁13-18
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
28:3 2004.03[民93.03]
- 頁 次:
頁41-46
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
29:4 2004.11[民93.11]
- 頁 次:
頁240-246