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題 名:
多層碳奈米管之熱重分析:Thermogravimetric Analysis of Multi-Walled Carbon Nanotubes
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
49:1=219 2002.02[民91.02]
- 頁 次:
頁53-59
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題 名:
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題 名:
熱化學氣相沉積法合成單層碳奈米管:Synthesis of Single-Walled Carbon Nanotubes by Thermal Chemical Vapor Deposition
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
49:1=219 2002.02[民91.02]
- 頁 次:
頁60-66
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
182 2002.02[民91.02]
- 頁 次:
頁146-150
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題 名:
入口流速對MOCVD反應室內氣體分佈的影響:The Influence of flow Rate on Gas Distribution in MOCVD Chamber
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
34:4 2002.12[民91.12]
- 頁 次:
頁255-260
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
34:2 2002.06[民91.06]
- 頁 次:
頁112-116
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
14:2 2002.06[民91.06]
- 頁 次:
頁9-15
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題 名:
氧化層厚度在矽晶元件上之研究:The Study of Oxide Thickness in the Silicon Device
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
25 2002.03[民91.03]
- 頁 次:
頁621-634
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
9:2 2002.05[民91.05]
- 頁 次:
頁13-17
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題 名:
比較CF[feb2]/C[feaf]H[feaf]及CF[feb2]/C[feaf]H[feb8]電漿製備低介電材料氟化非晶碳膜之研究:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
9:4 2002.11[民91.11]
- 頁 次:
頁33-37
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
60:3 2002.09[民91.09]
- 頁 次:
頁439-448
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
233 2002.08[民91.08]
- 頁 次:
頁97-102
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
155 2002.05[民91.05]
- 頁 次:
頁47-56