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題 名:
An Accurate Determination of P狇Silicon Layer Thickness for Microstructures:微結構的高濃度摻硼薄膜厚度的精確測定
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
5:2 1998.05[民87.05]
- 頁 次:
頁107-111
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題 名:
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題 名:
Characterization of Plasma Charging Induced Gate Oxide Damage during Metal Etching:金屬蝕刻時電漿充電損害效應的探討
- 作 者:
- 書刊名:
Proceedings of the National Science Council : Part A, Physical Science and Engineering
- 卷 期:
22:3 1998.05[民87.05]
- 頁 次:
頁416-424
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
4:9=38 1998.09[民87.09]
- 頁 次:
頁99-106
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
4:12=41 1998.12[民87.12]
- 頁 次:
頁96-102
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
187 1998.10[民87.10]
- 頁 次:
頁183-193
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
26 1998.03[民87.03]
- 頁 次:
頁16-19
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
5:1 1998.03[民87.03]
- 頁 次:
頁39-41
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
62 1998.06[民87.06]
- 頁 次:
頁24-28
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
27 1998.06[民87.06]
- 頁 次:
頁23-30