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題 名:
Global Model of Plasma Chemistry in a High Density Argon/Hydrogen Discharge:高密度氬氣/氫氣電漿反應器之模型研究
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
31:5 2000.09[民89.09]
- 頁 次:
頁477-485
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題 名: