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- 題 名:
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- 書刊名:
- 卷 期:
12:3 1999.10[民88.10]
- 頁 次:
頁4-15
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
24 1999.01[民88.01]
- 頁 次:
頁30-48
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題 名:
鑄造鋁合金氧化膜之非破壞診斷技術:The NDT Application for Oxidized Films of Casting Aluminium
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
19:6 民90.11-12
- 頁 次:
頁236-242
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:1 2000.03[民89.03]
- 頁 次:
頁15-19
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題 名:
干涉式多層透明導電膜之重複性研究:Repeatability of Multilayer Transparent Conducting Films
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:1 2000.03[民89.03]
- 頁 次:
頁20-24
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:3 2000.09[民89.09]
- 頁 次:
頁26-32
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題 名:
快流式二氧化碳雷射中氮與氦角色的重新定位:Revision of the Functions of N[feaf]and He in a Fast Flow CO[feaf]Laser
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:2 2000.07[民89.07]
- 頁 次:
頁53-58
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題 名:
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題 名:
退火氣氛及溫度對ATO薄膜影響之研究:The Effects of Annealing Atmosphere and Temperature on ATO Films
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
14:3 2001.10[民90.10]
- 頁 次:
頁17-21
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
21 1997.06[民86.06]
- 頁 次:
頁36-47
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
20 1997.03[民86.03]
- 頁 次:
頁28-42
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
23 1998.03[民87.03]
- 頁 次:
頁12-38
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
18 1996.07[民85.07]
- 頁 次:
頁14-27
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:3=63 1997.03[民86.03]
- 頁 次:
頁17-19
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
29 2002.09[民91.09]
- 頁 次:
頁1-11
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
19:3=89 2003.09[民92.09]
- 頁 次:
頁58-75
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
12:2=58 1995.12[民84.12]
- 頁 次:
頁89-94
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
8:1/2 民84.08
- 頁 次:
頁14-19
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題 名:
X-Ray Reflectivity Measurement of a Silicon Oxide Layer on Si Wafer:矽晶片上氧化層的X光反射率測量
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
6:1 1993.04[民82.04]
- 頁 次:
頁4-11
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題 名:
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題 名:
ONO側壁與CESL對MOSFET通道應力影響之分析:The Effect of ONO Spacer and CESL on the Channel Stress of MOSFET Devices
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
25:3 2012.09[民101.09]
- 頁 次:
頁22-27
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
25:4 2012.12[民101.12]
- 頁 次:
頁40-45