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題 名:
微機電系統的感應耦合電漿設備與製程技術:Inductively Coupled Plasma Equipment and Technology in MEMS
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:4 2000.11[民89.11]
- 頁 次:
頁17-24
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題 名:
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- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:4 2000.11[民89.11]
- 頁 次:
頁25-31
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題 名:
電漿輔助原子層沉積釕與氮化鉭薄膜製程研究:Ru and TaNx Thin Films Grown by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
26:1 2013.03[民102.03]
- 頁 次:
頁21-26
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題 名:
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題 名:
幾何形狀對矽感應耦合電漿蝕刻的影響:Shape Effect on the Inductively Coupled Plasma Etching of Silicon
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
16:3 2004.01[民93.01]
- 頁 次:
頁19-24
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
22:4 2009.12[民98.12]
- 頁 次:
頁39-44