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題 名:
反應性直流磁控濺鍍製程之PID穩定控制研究:The Stability of PID Control for DC Reactive Magnetron Sputtering Processes
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:3 2019.09[民108.09]
- 頁 次:
頁24-30
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
45:2=291 2020.06[民109.06]
- 頁 次:
頁64-71