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The Monomer Inlet Position Effect on the Fluorocarbon Film Deposited Using RF Plasma:單體進料位置對電漿沉積氟碳膜之影響
劉志宏 魏大欽 Liu, Chi-hung; Wei, Ta-chin;
Journal of the Chinese Institute of Chemical Engineers
37:2 民95.03
頁169-176
TCI引用統計