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- 題 名:
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- 卷 期:
222 2001.09[民90.09]
- 頁 次:
頁198-205
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
193 2003.01[民92.01]
- 頁 次:
頁171-174
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
17:2=88 1995.10[民84.10]
- 頁 次:
頁66-73
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題 名:
電漿輔助原子層沉積釕與氮化鉭薄膜製程研究:Ru and TaNx Thin Films Grown by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
26:1 2013.03[民102.03]
- 頁 次:
頁21-26
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
28:3 2015.09[民104.09]
- 頁 次:
頁5-9
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題 名:
國內太陽光電設備產業現況與挑戰:Current Status and Challenge of Taiwan PV Equipment Industry
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
272 2010.03[民99.03]
- 頁 次:
頁54-60
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題 名:
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題 名:
薄膜太陽能電池量產技術及設備發展:The Development of Thin Film Solar Cell Manufacturing Technologies and Equipments
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
272 2010.03[民99.03]
- 頁 次:
頁61-68
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
273 2010.06[民99.06]
- 頁 次:
頁49-60
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
758 2011.10[民100.10]
- 頁 次:
頁66-79
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
27:2 2012.06[民101.06]
- 頁 次:
頁91-96
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題 名:
大面積電漿源鍍膜技術介紹:Study of Large-Area Plasma Deposition Technology
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
276 2011.03[民100.03]
- 頁 次:
頁50-59
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
338 2011.05[民100.05]
- 頁 次:
頁52-63
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
338 2011.05[民100.05]
- 頁 次:
頁87-96
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
338 2011.05[民100.05]
- 頁 次:
頁97-104
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題 名:
電漿輔助原子層鍍膜設備電控系統介紹:Introduce the Electric System for PEALD Equipment
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
338 2011.05[民100.05]
- 頁 次:
頁134-144
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題 名:
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題 名:
超高頻電漿輔助化學氣相沉積設備技術:Technology of VHF Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Equipment
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
266 2008.09[民97.09]
- 頁 次:
頁84-94
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題 名:
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題 名:
電漿輔助式分子束磊晶應用於氮化鎵的成長:Plasma-Assisted Molecular Beam Epitaxy for GaN Growth
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
31:5=175 2010.04[民99.04]
- 頁 次:
頁65-72
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
16:3=176 2010.03[民99.03]
- 頁 次:
頁104-113
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
22:1 2009.03[民98.03]
- 頁 次:
頁6-16
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
22:4 2009.12[民98.12]
- 頁 次:
頁39-44