查詢結果
檢索結果筆數(8)。 各著作權人授權國家圖書館,敬請洽詢 nclper@ncl.edu.tw
-
-
題 名:
Characterization of Plasma Charging Induced Gate Oxide Damage during Metal Etching:金屬蝕刻時電漿充電損害效應的探討
- 作 者:
- 書刊名:
Proceedings of the National Science Council : Part A, Physical Science and Engineering
- 卷 期:
22:3 1998.05[民87.05]
- 頁 次:
頁416-424
-
題 名:
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
7:2=67 2001.02[民90.02]
- 頁 次:
頁176-180
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
4:2 1997.08[民86.08]
- 頁 次:
頁23-26
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
1:4=4 1995.11[民84.11]
- 頁 次:
頁90-100
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
19 民86.11
- 頁 次:
頁187-194
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
4:2 1987.06[民76.06]
- 頁 次:
頁63-68
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
158 2004.12[民93.12]
- 頁 次:
頁78-80+82+84
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
6:2 2008.03[民97.03]
- 頁 次:
頁13-21