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題 名:
ALD設備與產業展望:Industrial Applications and Development Prospect of Atomic Layer Deposition
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:2=196 2013.10[民102.10]
- 頁 次:
頁71-80
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
28:3 2015.09[民104.09]
- 頁 次:
頁5-9
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
29:1 2016.03[民105.03]
- 頁 次:
頁27-31
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題 名:
原子層沉積技術在奈米製程之應用:Application of Atomic Layer Deposition on Template-Directed Growth of Nanostructures
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
30:2=166 2008.10[民97.10]
- 頁 次:
頁55-64
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
20:1 2007.10[民96.10]
- 頁 次:
頁59-62
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
15 2008.12[民97.12]
- 頁 次:
頁52-56
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題 名:
原子層沉積製程設備對薄膜品質的影響:The Influence of ALD Process Equipment on Film Quality
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
34:2 2021.06[民110.06]
- 頁 次:
頁38-43
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題 名:
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題 名:
多功能式極紫外光微影元件檢測服務平臺:Multi-functional Extreme Ultraviolet Lithography Component Inspection Platform
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
240 2024.09[民113.09]
- 頁 次:
頁45-56
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題 名: