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題 名 | 65奈米電子世代下193奈米微影最具發展潛力 |
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作 者 | 陳俊儒; | 書刊名 | 新電子科技 |
卷 期 | 215 2004.02[民93.02] |
頁 次 | 頁53+56+58+60+62 |
分類號 | 448.57 |
關鍵詞 | 微影製程; IC製造; 193奈米微影濕浸式技術; 157奈米微影; 極短紫外光微影; 投影式電子束微影技術; Liquid immersion; Extreme ultraviolet; EUV; Electron-beam projection lithography; EPL; |
語 文 | 中文(Chinese) |