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題 名 | 同步輻射X光光刻術光束線系統特性研究=Characteristic Study of the X-Ray Lithography Beamline at SRRC |
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作 者 | 蕭豐礽; 熊高鈺; 陳俊榮; | 書刊名 | 真空科技 |
卷 期 | 11:2 1998.07[民87.07] |
頁 次 | 頁14-29 |
分類號 | 446.7 |
關鍵詞 | X光光刻術光束線; |
語 文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 本文研究同步輻射研究中心X光光刻術光束線系統,除了閘明光束線於光學、其空 、控制、安全鎖控以及曝光系統等方面之設計與架構外同時研究其特性及性能。我們模擬計 算了光束之功率能譜、能量傳遞、曝光均勻度及曝光糢糊度,同時亦進行了光束線真空測試 、反射聚光鏡調整機構精度測試與曝光均勻度量測。由實際運作測試結果此光束線之真空度 於光束未引出時超高真空可達 6x10-10 torr 且於光束引出時可至 2.3x10-9 torr、聚光鏡 之垂直掃瞄精度可控制在 40 μ rad 以內、 而曝光均勻度量測顯示光束掃描時有 12 %左 右之曝光不均勻度。 由模擬及測試結果顯示此光束線為適合 0.13 μ m 線寬製程研究之低 能量 X 光光源。 |
英文摘要 | this beam line include the power spectrum, the total power propagation, the uniformity of exposure, and the: penumbral blur. We also performed the vacuum test of this beam line, the performance measurement of the mirror adjustment mechanism, and the uniformity measurement. The results of the commissioning of this beam line conclude that the vacuum status of 6 x 10 -10 torr is obtained when synchrotron light is off end 2.3X 10-9 torr is obtained when synchrotron light is on, the position error for the scan of mirror is within 40 rad, and the non-uniformity within the exposure area is 12%. The simulation and test results conclude that lithis beam line provides the soft X-ray suitable for researches on 0.13 m design rule process. |
本系統中英文摘要資訊取自各篇刊載內容。