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題名 | VPD/TXRF的基本原理和在半導體製程的應用 |
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作者 | 劉博文; | 書刊名 | 科儀新知 |
卷期 | 20:5=109 1999.04[民88.04] |
頁次 | 頁68-83 |
分類號 | 448.552 |
關鍵詞 | 半導體製程; 蒸氣分解法/全反射螢光表面分析儀; Vapor phase decomposition total reflection X-ray fluorescence spectroscopy; VPD/TXRF; |
語文 | 中文(Chinese) |