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題名 | 次元分析在I.C.製程光阻覆蓋之應用=Application of Dimensional Analysis to the Spin Coating Procedure in the Manufacturing Process of Integrated Circuit |
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作者姓名(中文) | 唐麗英; 黎正中; 李威儀; 林俊材; |
作者姓名(外文) | Tong, Lee-ing; Li, Chang-chung; Lee, Wei-i; Lin, Jun-tuair; |
書刊名 | 工業工程學刊 |
卷期 | 13:4 1996.10[民85.10] |
頁次 | 頁381-390 |
分類號 | 448.517 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 次元分析; 旋轉上光阻劑; 光製版術; 無次元乘積; Dimensional analysis; Spin coating; Photolithography; Dimensionless product; |