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題名 | 不同靶材於高功率脈衝磁控濺鍍技術之電性分析=The Electrical Analysis of Different Targets in High Power Impulse Magnetron Sputtering Technique |
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作者 | 張奇龍; 施効谷; 陳威池; 陳品宏; 吳宛玉; Chang, Chi-lung; Shih, Siao-gu; Chen, Wei-chih; Chen, Pin-hung; Wu, Wan-yu; |
期刊 | 真空科技 |
出版日期 | 20170300 |
卷期 | 30:1 2017.03[民106.03] |
頁次 | 頁49-57 |
分類號 | 472.16 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 高功率脈衝磁控濺鍍技術; 瞬間電流; 瞬間電壓; 瞬間功率密度; |