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題 名 | 專利程序審查基準2010年修正之簡介=An Introduction to 2010 Amendments of the Patent Procedural Examination Guidelines |
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作 者 | 洪菁蔓; 陳煒仁; 周光宇; | 書刊名 | 智慧財產權月刊 |
卷 期 | 145 2011.01[民100.01] |
頁 次 | 頁5-30 |
專 輯 | 專利程序審查基準修正與實務介紹 |
分類號 | 440.6 |
關鍵詞 | 專利程序審查基準; 專利先申請原則; 申請日; 申請人; 說明書; 圖式; 圖面; 外文本; 指定代表圖; |
語 文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 摘要 「專利審查基準第一篇程序審查及專利權管理」在2010 年進行部分 修正,修正重點包括專利申請人之處理原則、專利申請案申請日之認定標 準、說明書有部分缺頁及圖式(圖面)有部分缺漏之處理原則、外文本處 理原則、發明專利申請案之必要圖式、發明或新型專利申請案之指定代表 圖,得依職權指定或修正及其他配合相關法規修正事項等等。其中以「申 請人之處理原則」與「說明書部分缺頁或圖式或圖面部分缺漏,將影響專 利申請日之取得」之實務作業變革最大,也最攸關申請人之權益。智慧局 期望透由本次修正,落實專利相關法制、配合實務變革作業及提升程序審 查品質。 |
本系統中英文摘要資訊取自各篇刊載內容。