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題 名 | Rapid Thermal Annealing of Ta-N Thin Films and Its Effects on Phase Transition and Electrical Behaviors |
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作 者 | Hsieh, J. H.; Wang, C. M.; Yeh, Hsien-chi; | 書刊名 | 真空科技 |
卷 期 | 19:2 民95.11 |
頁 次 | 頁54-59 |
分類號 | 448.57 |
關鍵詞 | Ta-N thin films; Rapid thermal annealing; Resistivity; Temperature coefficient of resistivity; Microstructure; |
語 文 | 英文(English) |