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來源資料
真空科技
22:1 2009.03[民98.03]
頁6-16
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題名
PEALD半導體元件製程應用=
作者
蕭健男
;
柯志忠
;
劉伯亨
;
游智傑
;
陳峰志
;
期刊
真空科技
出版日期
20090300
卷期
22:1 2009.03[民98.03]
頁次
頁6-16
分類號
448.552
語文
chi
關鍵詞
電漿輔助原子層沈積技術
;
銅導線製程
;
高深寬比
;
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