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題 名 | The Argon Gas-Based Rapid Thermal Processing for TiSi[9058] Phase Transformation |
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作 者 | Chen, Ping-hsun; Chen, Ta-te; Shih, Han-chang; | 書刊名 | 淡江理工學刊 |
卷 期 | 11:2 2008.06[民97.06] |
頁 次 | 頁229-232 |
分類號 | 472.2 |
關鍵詞 | Semiconductors; Heat treatment; Electron microscopy; Electrical properties; |
語 文 | 英文(English) |