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題 名 | 研磨液組成及機械變數對鋁化學-機械拋光製程中電化學性質影響之研究=Effects of Slurry Composition and Mechanical Parameter on the Electrochemical Behaviors of Aluminum during CMP Process |
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作 者 | 林義雄; 陳瑞琴; 蔡文達; | 書刊名 | 防蝕工程 |
卷 期 | 16:4 2002.12[民91.12] |
頁 次 | 頁271-280 |
分類號 | 472.5 |
關鍵詞 | 鋁; 化學機械拋光法; 電化學; Aluminum; Chemical mechanical polishing; CMP; Electrochemistry; |
語 文 | 中文(Chinese) |