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題名 | 以電混凝法去除模擬化學機械研磨廢液中二氧化矽粒子之研究=Electrocoagulation for Removal of Silica Particles from Synthetic Chemical Mechanical Polishing Wastewater |
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作者 | 邱蕙琳; 張時瑜; 周偉龍; 賴宥蒼; 張文俊; Chiu, Hui-lin; Chang, Shih-yu; Chou, Wei-lung; Lai, Yu-tsang; Chang, Wen-chun; |
期刊 | 弘光學報 |
出版日期 | 20080800 |
卷期 | 53 2008.08[民97.08] |
頁次 | 頁267-276 |
分類號 | 445.46 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 化學機械研磨; 電混凝; 濁度; 廢液; Chemical mechanical polishing; Electrocoagulation; Turbidity; Wastewater; |