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題 名 | 電漿浸沒離子注入氮化法(PIII&N)於牙科挫針之切削率研究=The Research of Cutting Rate for Dental Drill Treated by Plasma Immersion Ion Implantation Nitriding (PIII&N) Process |
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作 者 | 魏進忠; 張文信; 蔡文發; 林俊彬; 楊萬騏; | 書刊名 | 先進工程學刊 |
卷 期 | 4:2 2009.04[民98.04] |
頁 次 | 頁105-111 |
分類號 | 440.2 |
關鍵詞 | 電漿浸沒離子注入; 硬度縱深分布; 氮原子分佈; 牙科挫針; 切削率; Plasma immersion ion implantation; PIII; Profile of hardness; Nitrogen distribution; Dental drill; Cutting efficiency; |
語 文 | 中文(Chinese) |