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題名 | 低能電子顯微術簡介= |
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作者 | 張嘉升; |
期刊 | 科儀新知 |
出版日期 | 19981200 |
卷期 | 20:3=107 1998.12[民87.12] |
頁次 | 頁15-21 |
分類號 | 337.97 |
語文 | chi |
關鍵詞 | 低能電子顯微術; |
中文摘要 | 低能電子顯微術( low energy electron microscopy, LEEM) 乃一項新的表面顯 微技術,經過將近二十年的研發才臻成熟。雖然它和傳統的電子顯微鏡一樣,都是利用電子 的波動性質及電磁透鏡來成像,它的入射電子能量卻小於 100eV;因此,它對樣品的表面特 性十分敏感。其影像的對比主要是由繞射效應產生;解析度則取決於電子能量分散程度及電 磁透鏡之球像差與色像差。 LEEM 很容易與其他的表面分析技術結合,如低能電子繞射儀( LEED )及光致電子顯微術( PEEM )等; 它同時能在很寬的溫度區間提供現場的觀測,有 利於固體表面的動態現象研究。 |
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