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題 名 | 多層底部抗反射層應用於高數值孔徑與修正型照明之曝光系統 |
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作 者 | 范萬達; 陳學禮; 王子建; 謝忠益; | 書刊名 | 奈米通訊 |
卷 期 | 10:3 2003.08[民92.08] |
頁 次 | 頁13-19 |
分類號 | 448.57 |
關鍵詞 | ArF與F[feaf]準分子雷射微影術; 底部抗反射層; 高數值孔徑; 修正型照明; ArF and F[feaf]excimer laser microlithography; Bottom anti-reflective coating; High numerical aperture; Modified illumination; |
語 文 | 中文(Chinese) |