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題 名 | 電沉積製備高深寬比金屬奈米線陣列之研究=High Aspect Ratio Metal Nanowire Arrays Fabricated by Electrochemical Deposition |
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作 者 | 蔣亞霖; 葉翳民; | 書刊名 | 技術學刊 |
卷 期 | 24:4 2009.12[民98.12] |
頁 次 | 頁251-255 |
分類號 | 440.34 |
關鍵詞 | 高深寬比; 金屬奈米線陣列; 陽極氧化鋁; 電化學沉積; High aspect ratio; Metal nanowire array; Anodic aluminum oxide; AAO; Electrochemical deposition; ECD; |
語 文 | 中文(Chinese) |