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題 名 | 由雙氧鈾(Uranyl)複合體之非晶質膜UO[feb0]圖樣之高效率無光阻平版印刷 |
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作 者 | 林宗新; | 書刊名 | 印刷科技 |
卷 期 | 16:2=74 1999.12[民88.12] |
頁 次 | 頁55-72 |
分類號 | 477.1 |
關鍵詞 | 雙氧鈾複合體; 非晶質膜UO[feb0]圖樣; 無光阻平版印刷; Uranyl; |
語 文 | 中文(Chinese) |
中文摘要 | 本文旨在發展氧化鈾膜之光學平版印刷法,並探討雙氧鈾複合體之固 體狀態光化學,這些複合體之一般化學式為UO (OOCR) (R=i-C H ,C H ,CH C H ,CH OC H ,C H OC H ),皆為光敏感性可作為薄無定形膜。 每一個複合體之主要光化學反應皆由配位體擠壓CO 並產生自由基以起始鏈 反應,此鏈反應之本質與有機取代物R之鑑定相關,於某些情形下鏈反應需光 化學步驟,而其他全部與熱本質有關,最重要者為高量子位能形成,其伴隨熱 鏈反應,此處所指之某些系統中呈現大於1之量子產率,藉由於矽表面之氧化 鈾圖樣(Pattern)證實此製程與光學石版印刷相容。 |
本系統中英文摘要資訊取自各篇刊載內容。