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高劑量離子佈植及回火後之焦化光阻的去除方法:Wet Process for Stripping Implant-Hardened or Thermal-Hardened Photoresist after High Dose Ion Implantation and Rapid Thermal Anneal
張連璧 吳國宏 龔定華 藍海 羅漢華 Chang, L. B.; Wu, K. H.; Kung, T. H.; Lan, H.; Lu, H. H.;
材料科學與工程
32:2 2000.06[民89.06]
頁47-51
TCI引用統計