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Improvement of Ultra-Thin Gate Oxide Reliability Using Fluorine and Nitrogen Implantation:利用氟與氮的離子佈植來改善超薄氧化層的可靠度
黃正權 李建南 Huang, Cheng-chuan; Lee, Chien-nan;
亞東學報
26 民95.05
頁7-12
TCI引用統計