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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
14 2001.06[民90.06]
- 頁 次:
頁97-102
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
9:6=104 2001.06[民90.06]
- 頁 次:
頁50-54
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
123 1997.03[民86.03]
- 頁 次:
頁82-85
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
22:5=254 2014.05[民103.05]
- 頁 次:
頁134-150
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
22:4=253 2014.04[民103.04]
- 頁 次:
頁128-137
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
23:5 2004.10[民93.10]
- 頁 次:
頁404-414
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題 名:
磁控濺鍍電漿製程之表面處理設備:Surface Treatment Equipment of Magnetron Sputter Plasma System
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
304 2008.07[民97.07]
- 頁 次:
頁82-90
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題 名:
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
17:8=197 2009.08[民98.08]
- 頁 次:
頁132-147
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題 名:
電漿輔助原子級氣相沉積技術介紹:Introduction of Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition Technique
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
30:4 2017.12[民106.12]
- 頁 次:
頁58-64
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題 名: