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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
48:4=216 2001.08[民90.08]
- 頁 次:
頁1-10
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
9:2 1996.07[民85.07]
- 頁 次:
頁34-45
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
15:2 2003.05[民92.05]
- 頁 次:
頁99-110
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:2 2003.06[民92.06]
- 頁 次:
頁130-134
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題 名:
控制電漿位置以成長類鑽奈米尖錐:Deposition of Nano Diamond-like Tip by Plasma Position Controlling
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:1 2003.03[民92.03]
- 頁 次:
頁31-35
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題 名:
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題 名:
氧化層厚度在矽晶元件上之研究:The Study of Oxide Thickness in the Silicon Device
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
25 2002.03[民91.03]
- 頁 次:
頁621-634
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
19:2 1994.06[民83.06]
- 頁 次:
頁72-78
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
24 1994.11[民83.11]
- 頁 次:
頁237-241
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
7:1 1994.06[民83.06]
- 頁 次:
頁12-17
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題 名:
以微波電漿化學氣相沉積法在鑽石緩衝層上成長立方氮化硼薄膜:Growth of Cubic Boron Nitride Films on Diamond Buffer Layers Via MPCVD
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
36:1 2004.03[民93.03]
- 頁 次:
頁59-63
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
59:1=229 2015.03[民104.03]
- 頁 次:
頁42-48
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
22:11=263 2012.11[民101.11]
- 頁 次:
頁150-160
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
36:2 2004.06[民93.06]
- 頁 次:
頁116-120
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
60:1=233 2016.03[民105.03]
- 頁 次:
頁91-99
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
61:1=237 2017.03[民106.03]
- 頁 次:
頁54-61
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
335 2011.02[民100.02]
- 頁 次:
頁51-63
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
17:4=189 2011.04[民100.04]
- 頁 次:
頁111-119
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題 名:
低應力複合阻障薄膜封裝技術與應用:Low Stress Compound Barrier Thin-film Encapsulation Technology and Application
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
351 2012.06[民101.06]
- 頁 次:
頁45-55
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題 名:
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題 名:
以脈衝化學氣相沉積類鑽碳薄膜之特性研究:The Study of the Characteristics the DLC Thin Films by Pulsed Discharge CVD
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
31 2011.12[民100.12]
- 頁 次:
頁53-59
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
16:3=176 2010.03[民99.03]
- 頁 次:
頁94-103