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濺鍍沈積氮化鉭(Ta[feaf]N/TaN)薄膜的特性與對銅的擴散阻礙性能探討:Evaluation of Tantalum Nitride (Ta[feaf]N/TaN) Thin Films as Diffusion Barriers for Copper
許振聲 黃獻慶 府玠辰 莊鑫堅 陳錦山 Hsu, C. S.; Huang, S. C.; Fu, C. C.; Chuang, H. C.; Chen, G. S.;
真空科技
13:4 2000.11[民89.11]
頁4-16
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