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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
24:1 1999.02[民88.02]
- 頁 次:
頁30-35
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
30:5 1999.09[民88.09]
- 頁 次:
頁421-429
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
31:1 2000.01[民89.01]
- 頁 次:
頁1-9
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題 名:
IC製程用193nm光阻劑之製備及微影性質研究:Study on Synthesis and Lithographic Performance of 193nm Photoresist
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
84 2002.02[民91.02]
- 頁 次:
頁67-83
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
3:2 1988.03[民77.03]
- 頁 次:
頁11-26
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
24:4=270 2010.12[民99.12]
- 頁 次:
頁261-270
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
48:2 2012.06[民101.06]
- 頁 次:
頁39-50