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題 名:
極紫外光微影技術實驗設施:Extreme UV Lithography Beamline for Nano Devices
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
88 2014.03[民103.03]
- 頁 次:
頁8-9
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
90 2014.10[民103.10]
- 頁 次:
頁9
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
94 2015.10[民104.10]
- 頁 次:
頁11
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
97 2016.06[民105.06]
- 頁 次:
頁7
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
97 2012.01[民101.01]
- 頁 次:
頁29-30
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
79 2011.12[民100.12]
- 頁 次:
頁6
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
110 2019.09[民108.09]
- 頁 次:
頁12
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
100 2017.03[民106.03]
- 頁 次:
頁13
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
113 2020.06[民109.06]
- 頁 次:
頁7
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
52:12=624 2021.12[民110.12]
- 頁 次:
頁48-51
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題 名:
Fabrication and Characterization of Ga₂O₃ Deep UV Photodetector by MOCVD:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:1 2022.03[民111.03]
- 頁 次:
頁39
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
36:1 2023.03[民112.03]
- 頁 次:
頁32