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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
5:2 1998.05[民87.05]
- 頁 次:
頁20-22
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題 名:
動態隨機存取記憶體製程技術趨勢:The Trend of Dynamic Random Access Memory Process Technology
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
72 1998.09[民87.09]
- 頁 次:
頁56-62
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
4:11=40 1998.11[民87.11]
- 頁 次:
頁117-121
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題 名:
Kinetics of the Thermal Oxidation of WSi[feaf] Thin-film:金屬鎢矽化物薄膜氧化物之動力學研究
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
7 1988.04[民77.04]
- 頁 次:
頁115-137
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
14:4 2001.12[民90.12]
- 頁 次:
頁38-46
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
11:1 2000.03[民89.03]
- 頁 次:
頁53-60
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
180 2001.12[民90.12]
- 頁 次:
頁170-174
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題 名:
積體電路製程技術趨勢:The Trend of Integrated Circuit Process Technology
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
140 1997.11[民86.11]
- 頁 次:
頁144-156
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
27 1997.11[民86.11]
- 頁 次:
頁239-246
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題 名:
以無機化學氣相沈積法製作薄膜材料:Thin Film Materials Prepared by Inorganic Chemical Vapor Deposition
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
56:2 1998.06[民87.06]
- 頁 次:
頁129-135
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題 名:
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題 名:
Study for Formation of Molybdenum and Tungsten Silicides by the Help of Cobalt:鈷幫助鉬和鎢矽化物形成之研究
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
22 1996.04[民85.04]
- 頁 次:
頁1-6
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
2:7=12 1996.07[民85.07]
- 頁 次:
頁53-57
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
2:7=12 1996.07[民85.07]
- 頁 次:
頁73-78
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題 名:
次微米互補式金氧半積體電路之靜電放電防護--進階篇:ESD Protection for Submicron CMOS IC's--Recent Development
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
52 1996.09[民85.09]
- 頁 次:
頁84-96
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
15:1 2002.04[民91.04]
- 頁 次:
頁61-65
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
9:3=92 2003.03[民92.03]
- 頁 次:
頁148-161
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
7:3 2000.08[民89.08]
- 頁 次:
頁5-8
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題 名:
Preparation of Ormosils by Sol-Gel Method with Ultrasonic Irradiation:利用溶膠--凝膠法輔以超音波震盪製備有機改質矽化物
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
24 1994.11[民83.11]
- 頁 次:
頁125-132
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
7:2 1993.06[民82.06]
- 頁 次:
頁12-26
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
24:6 民80.11-12
- 頁 次:
頁926-933