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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
8:3 2001.08[民90.08]
- 頁 次:
頁28-30
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
3:2 1989.09[民78.09]
- 頁 次:
頁137-140
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題 名:
High Tc Superconducting Thin Film Fabrication by Modified DC Sputtering Process:修改型直流濺鍍法製作高溫超導薄膜
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
3:2 1989.09[民78.09]
- 頁 次:
頁125-127
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題 名:
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題 名:
雙層 Ge₂Sb₂Te₅薄膜之製備及特性研究:Prepartion and Characterization of Bilayer Ge₂Sb₂Te₅ Thin Films
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
23:2 2012.07[民101.07]
- 頁 次:
頁37-44
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題 名:
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
39:2 2013.08[民102.08]
- 頁 次:
頁1-15
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
41:4 2016.11[民105.11]
- 頁 次:
頁261-269
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
37:2 2011.08[民100.08]
- 頁 次:
頁79-86
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
37:1 2011.02[民100.02]
- 頁 次:
頁67-76
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題 名:
以AFM/DPA/FESEM研究直流濺鍍ZnO CVD用緩衝層:An AFM/DPA/FESEM Study on DC Sputtered ZnO Buffer Layer
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
37:3 民94.09
- 頁 次:
頁155-160
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題 名:
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題 名:
直流磁控濺鍍機檔板最佳化分析:Optimization of Blocking Plate for Magnetron Sputtering Machine
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
19:4=71 2010.11[民99.11]
- 頁 次:
頁53-66
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題 名:
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:3 2019.09[民108.09]
- 頁 次:
頁19
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
46 2021.12[民110.12]
- 頁 次:
頁16-24