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題 名:
原子層沉積系統設計與製作實務:Practical Design and Fabrication of Atomic Layer Deposition System
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
26:1 2013.03[民102.03]
- 頁 次:
頁6-12
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題 名:
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題 名:
ALD設備與產業展望:Industrial Applications and Development Prospect of Atomic Layer Deposition
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:2=196 2013.10[民102.10]
- 頁 次:
頁71-80
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題 名:
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題 名:
原子層沉積技術於電阻式記憶體元件之應用:Applications of Atomic Layer Deposition in Resistance Random Access Memory
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
363 2013.06[民102.06]
- 頁 次:
頁134-143
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
28:3 2015.09[民104.09]
- 頁 次:
頁5-9
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題 名:
原子層沉積技術之發展與應用:Development and Application of Atomic Layer Deposition
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
198 2014.03[民103.03]
- 頁 次:
頁38-46
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
375 2014.06[民103.06]
- 頁 次:
頁78-88
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題 名:
原子層沉積技術在奈米製程之應用:Application of Atomic Layer Deposition on Template-Directed Growth of Nanostructures
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
30:2=166 2008.10[民97.10]
- 頁 次:
頁55-64
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
22:4 2009.12[民98.12]
- 頁 次:
頁9-15
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
13:3=140 2007.03[民96.03]
- 頁 次:
頁144-158
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題 名:
原子層沉積製程技術於能源材料之應用:Applications of Atomic Layer Deposition on Energy Materials
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
222 2020.03[民109.03]
- 頁 次:
頁35-47
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
25:3 2018.09[民107.09]
- 頁 次:
頁26-27
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題 名:
原子層沉積製程設備對薄膜品質的影響:The Influence of ALD Process Equipment on Film Quality
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
34:2 2021.06[民110.06]
- 頁 次:
頁38-43
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題 名: