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題 名:
極紫外光微影技術實驗設施:Extreme UV Lithography Beamline for Nano Devices
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
88 2014.03[民103.03]
- 頁 次:
頁8-9
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
366 2016.05[民105.05]
- 頁 次:
頁16-20
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
41:1=481 2010.01[民99.01]
- 頁 次:
頁28-33
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
194 2007.12[民96.12]
- 頁 次:
頁40-42+44+46-47
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
194 2007.12[民96.12]
- 頁 次:
頁48-50+52
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
194 2007.12[民96.12]
- 頁 次:
頁54-56+58+60
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
194 2007.12[民96.12]
- 頁 次:
頁62-69
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
95 2022.04[民111.04]
- 頁 次:
頁117-127
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
316 2024.04[民113.04]
- 頁 次:
頁26-33
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
319 2024.07[民113.07]
- 頁 次:
頁70-76
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
160 2023.03[民112.03]
- 頁 次:
頁160-162
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
87 2020.08[民109.08]
- 頁 次:
頁76-82
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
54:7=643 2023.07[民112.07]
- 頁 次:
頁56-61
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題 名:
日韓貿易戰對全球資通訊產業供應鏈的衝擊:The Impact of Japan-South Korea Trade War on Global ICT Supply Chain
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
17:8 2019.08[民108.08]
- 頁 次:
頁20-26
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
81 2018.10[民107.10]
- 頁 次:
頁108-112
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
541 2018.01[民107.01]
- 頁 次:
頁21-29
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
25:4 2024.09[民113.09]
- 頁 次:
頁85-90
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
25:4 2024.09[民113.09]
- 頁 次:
頁81-84