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題 名:
氮化鎵乾式蝕刻技術(ICP-RIE)之研究:On the Study of GaN Dry Etching by Using Inductively Coupled Plasma
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
33:3 2001.09[民90.09]
- 頁 次:
頁136-142
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
8:4 2001.11[民90.11]
- 頁 次:
頁11-17
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
70 2000.06[民89.06]
- 頁 次:
頁10-16
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
202 2003.10[民92.10]
- 頁 次:
頁162-173
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
6:8=61 2000.08[民89.08]
- 頁 次:
頁114-121
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
11:3=116 2005.03[民94.03]
- 頁 次:
頁133-137
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
12:3 2005.08[民94.08]
- 頁 次:
頁44-49
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
11:3 2004.08[民93.08]
- 頁 次:
頁6-11
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
53 2004.09[民93.09]
- 頁 次:
頁34-41
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
23:1 2016.03[民105.03]
- 頁 次:
頁37-40
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
20:4=225 2014.04[民103.04]
- 頁 次:
頁152-161
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
21:1 2014.03[民103.03]
- 頁 次:
頁2-8