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利用單靶濺鍍不同成分之鉭鈦合金薄膜及其特性之研究:Various Ratio of Ta-Ti Alloy Thin Films by RF Magnetron Sputtering Process and Single Target
王錫九 李文德 陳適範 劉正威 薄慧雲 魏肇男 Wang, S. J.; Lee, W. D.; Chen, S. F.; Liu, J. W.; Bo, H. Y.; Wei, J. N.;
黎明學報
28:1 2017.01[民106.01]
頁43-47
TCI引用統計