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Effect of Plasma Treatment of a-SiO[febb]N /a-SiN[febb]Gate Insulators on a-Si:H Thin-Film Transistor:經電漿處理的非晶氮氧化矽/氮化矽閘極絕緣層對非晶矽薄膜電晶體特性的影響
簡廷憲 呂學德 蔡文欽 陳盈安 洪志旺 張俊彥 Jen,Tean-sen; Leu,Shyue-ter; Tsay,Wen-chin; Chen,Yen-ann; Hong,Jyh-wong; Chang,Chun-yen;
Journal of the Chinese Institute of Electrical Engineering
2:1 1995.02[民84.02]
頁19-24
TCI引用統計