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題 名:
以射頻磁控濺鍍製備p型類鑽碳薄膜之研究:Characterization of Boron-doped Diamond-like Carbon Prepared by R.F. Sputtering
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
28:3 2009.07[民98.07]
- 頁 次:
頁60-69
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題 名: