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The Effectiveness of Aluminum Mask for Patterning Semi-Insulating Regions on Si Wafer under MeV Proton Bombardment:在百萬電子伏特之質子照射下於矽晶片上使用鋁罩局部形成半絕緣體之有效性
李隆盛 李崇仁 鄧瑞理 楊清田 林立夫 Lee, Lurng-shehng; Lee, Chung-len; Tang, Denny Duan-lee; Yang, Tsing-tyan; Lin, Li-fu;
Proceedings of the National Science Council : Part A, Physical Science and Engineering
24:4 2000.07[民89.07]
頁306-309
TCI引用統計
2
Retardation of Epitaxial Realignment by Implantation of Argon in P狇/N Poly-Si or α-Si Emitter Diode:氬離子植入於p狇/n複晶矽或異型矽射極二極體中以抑制磊晶再排列
李隆盛 李崇仁 Lee, Lurng-shehng; Lee, Chung-len;
Journal of the Chinese Institute of Electrical Engineering
8:1 2001.02[民90.02]
頁1-7