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題 名:
ALD設備與產業展望:Industrial Applications and Development Prospect of Atomic Layer Deposition
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:2=196 2013.10[民102.10]
- 頁 次:
頁71-80
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題 名:
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題 名:
原子層沉積技術在奈米製程之應用:Application of Atomic Layer Deposition on Template-Directed Growth of Nanostructures
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
30:2=166 2008.10[民97.10]
- 頁 次:
頁55-64
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題 名:
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題 名:
原子層沉積製程技術於奈米觸媒應用:Applications of Atomic Layer Deposition on Fabrication of Nano-Catalysts
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
33:3=185 2011.12[民100.12]
- 頁 次:
頁12-22
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題 名:
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題 名:
真空薄膜技術研究發展:Development of Vacuum Technology for Thin Film Process
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
33:3=185 2011.12[民100.12]
- 頁 次:
頁33-45
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題 名:
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題 名:
原子層沉積系統設計概念與應用:Design Concept and Applications of Atomic Layer Deposition System
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
29:1=159 2007.08[民96.08]
- 頁 次:
頁14-25
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題 名:
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題 名:
原子層沉積製程技術於能源材料之應用:Applications of Atomic Layer Deposition on Energy Materials
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
222 2020.03[民109.03]
- 頁 次:
頁35-47
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題 名:
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
221 2019.12[民108.12]
- 頁 次:
頁88-100
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題 名:
應用於原子層沉積之臨場量測技術:The In-situ Measuring Technologies Applied on Atomic Layer Deposition
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
210 2017.03[民106.03]
- 頁 次:
頁47-57
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題 名:
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
225 2020.12[民109.12]
- 頁 次:
頁72-74
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題 名:
原子層沉積製程設備對薄膜品質的影響:The Influence of ALD Process Equipment on Film Quality
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
34:2 2021.06[民110.06]
- 頁 次:
頁38-43
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題 名: