查詢結果
檢索結果筆數(7)。 各著作權人授權國家圖書館,敬請洽詢 nclper@ncl.edu.tw
-
-
題 名:
Blind Equalization Using Pseudo-Gaussian-Based Compensatory Neuro-Fuzzy Filters:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
2:1 民93.03
- 頁 次:
頁72-89
-
題 名:
-
-
題 名:
ALD設備與產業展望:Industrial Applications and Development Prospect of Atomic Layer Deposition
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:2=196 2013.10[民102.10]
- 頁 次:
頁71-80
-
題 名:
-
-
題 名:
原子層沉積技術在奈米製程之應用:Application of Atomic Layer Deposition on Template-Directed Growth of Nanostructures
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
30:2=166 2008.10[民97.10]
- 頁 次:
頁55-64
-
題 名:
-
- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
221 2019.12[民108.12]
- 頁 次:
頁88-100
-
-
題 名:
應用於原子層沉積之臨場量測技術:The In-situ Measuring Technologies Applied on Atomic Layer Deposition
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
210 2017.03[民106.03]
- 頁 次:
頁47-57
-
題 名:
-
-
題 名:
原子層沉積製程設備對薄膜品質的影響:The Influence of ALD Process Equipment on Film Quality
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
34:2 2021.06[民110.06]
- 頁 次:
頁38-43
-
題 名:
-
-
題 名:
多功能式極紫外光微影元件檢測服務平臺:Multi-functional Extreme Ultraviolet Lithography Component Inspection Platform
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
240 2024.09[民113.09]
- 頁 次:
頁45-56
-
題 名: